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NIKKATO日陶高真空热处理设备

更新时间:2025-06-14      浏览次数:39

 NIKKATO日陶高真空热处理设备

 NIKKATO日 的高真空热处理设备具有以下特点和应用场景‌:

该设备可以在高真空环境下进行热处理,真空度可达10^-5帕。使用碳/金属加热器,由于在反射器结构中不使用绝缘体,因此可以获得高温、清洁的气氛。其标准规格如下:

  • 使用温度‌:2000℃

  • 有效尺寸‌:φ800×L500mm

  • 真空度‌:10^-5帕

  • 气氛‌:真空、减少、NH3等‌

此外,NIKKATO日陶还提供其他类型的热处理设备,包括:

  • 精密退火热处理设备‌:使用温度为1000℃,有效尺寸为W1000×D1000×H250mm,适用于浸泡处理,气氛可选空气中或惰性气体‌

  • 高压热处理设备‌:可在高温(最高1600℃)和高压(最高9.9MPa)下进行热处理,炉内尺寸为φ100×H100mm‌

  • 超高温氧化气氛热处理设备‌:使用温度可达1800℃,适用于还原气氛、惰性气氛等特殊气氛处理‌

这些设备广泛应用于各种工业和实验室场景,如高温物性测定、金属溶解熔融等‌



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